Оснащенность кафедры

Лаборатории оснащены необходимым для проведения исследований оборудованием, в частности, имеется:

• двухреакторная кластерная система вакуумно-плазменного травления (Cl, F процессы) структурообразующих слоев СБИС Plasmalab System 100 фирмы Oxford instr.;
• установка ионной планаризации структурообразующих слоев кристаллов СБИС IM 150 фирмы Oxford applied research.;
• установка ионно-лучевого травления Oxford Instruments Plasma Technology Ionfab (Англия);
• установка синтеза УНТ Oxford Instruments Plasma Technology Nanofab (Англия);
• установка высоковакуумного термического напыления Angstrom Engineering Evovac (Канада;)
• установка высоковакуумного термического напыление Evatec BAK 501;
• установка комбинированного напыления Angstrom Engineering Evovac  (Канада);
• установка плазменной очистки Diener Tetra 30;
• установка быстрого термического отжига AnnealSys AS-ON;E
• система, предназначенная для газофазного травления диэлектрических слоев в парах ангидрида плавиковой кислоты и эталона,  SPTS Monarch 3;
• лазерно-лучевое экспонирование фотошаблонных заготовок и прямая литография – установка DWL 2000 фирмы Heidelberg Instruments (Германия);
• оптический микроскоп Nikon Eclipse 200 (Япония);
• растровый электронный микроскоп Raith 150;
• сканирующий электронно-ионный микроскоп Helios NanoLab  компании FEI;
• ионный микроскоп VionPFIB компании FEI;
• ионно-оптический микроскоп OptiFIB компании DCG;
• многофункциональный инспекционный микроскоп UF диапазона INM 300 DUV фирмы Leica;
• многофункциональный инспекционный микроскоп IR диапазона INM 100 IR фирмы Leica;
• установка для механической очистки пластин SS-W 80B фирмы DNS (Screen) (Япония).
• сканирующий электронный микроскоп с системой энергодисперсионного микроанализа (EDAX) Nova NanoSEM 230 фирмы FEI.;
• комплекс оборудования для исследования технологии выращивания нанотрубок.